超高纯铜溅射靶材的研究现状及发展趋势
摘要
超高纯铜溅射靶材作为核心功能材料，在半导体、平板显示、太阳能光伏等领域应用广泛。文章系统综述了超高纯铜溅射靶材的国内外研究现状，分析了市场竞争格局、国内产业进展、应用领域拓展及技术研发进展。在此基础上，从市场需求、纯度提升、工艺创新、产业整合等维度探讨了其未来发展趋势，并提出了推动国产化进程与产业升级的建设性建议。当前超高纯铜溅射靶材国产替代提速向好，产业后续成长空间广阔。关键词
超高纯铜溅射靶材；研究现状；发展趋势；制备工艺；市场需求引用本文
张晓丹, 史云胜. 超高纯铜溅射靶材的研究现状及发展趋势[J]. 冶金与材料, 2026(8): 126-128.