TY  - JOUR
TI  - 超高纯铜溅射靶材的研究现状及发展趋势
AU  - 张晓丹
AU  - 史云胜
JO  - 冶金与材料
PY  - 2026
IS  - 8
SP  - 126
EP  - 128
SN  - 2096-4854
AB  - 超高纯铜溅射靶材作为核心功能材料，在半导体、平板显示、太阳能光伏等领域应用广泛。文章系统综述了超高纯铜溅射靶材的国内外研究现状，分析了市场竞争格局、国内产业进展、应用领域拓展及技术研发进展。在此基础上，从市场需求、纯度提升、工艺创新、产业整合等维度探讨了其未来发展趋势，并提出了推动国产化进程与产业升级的建设性建议。当前超高纯铜溅射靶材国产替代提速向好，产业后续成长空间广阔。
KW  - 超高纯铜溅射靶材
KW  - 研究现状
KW  - 发展趋势
KW  - 制备工艺
KW  - 市场需求
UR  - https://journal.zazhitong.com/yjycl/articles/2108474171610497025
ER  -